Widok standardowy Widok MARC Widok ISBD

Nowe kierunki w technologii kwasu siarkowego / Witold Kowalski.

Autor: Współtwórca(-y): Rodzaj materiału: TekstTekstSzczegóły wydania: Warszawa : Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, 1980.Opis: 82, [2] s., err. : rys. ; 21 cmISBN:
  • 8320403065
Tematy:
Egzemplarze
Typ dokumentu Obecna biblioteka Kolekcja Sygnatura Status Kod kreskowy
Magazyn - Wypożyczane na zewnątrz z kolekcji MG Biblioteka Politechniki Poznańskiej na półce magazyn główny Mg 95417 Dostępny 0000204808
Liczba zamówień: 0

Bibliogr. s. 79-[83].

Udostępnij