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080			_a620.179.15
100	0		_aPutzar Renate. _eAutor _9222663
245	1	0	_aAuflösungsgrenzen bei der Reparatur klarer Defekte auf Masken für die Röntgenstrahllithographie mittels laserinduzierter Abscheidung / _cRenate Putzar.
260			_aBerlin : _bTechnische Universität, _c1991.
300			_a[8], 126, [26] stron : _bilustracje ; _c30 cm.
336			_aTekst
337			_aBez urządzenia pośredniczącego
338			_aWolumin
500			_aDissertation. Fakultät für Elektrotechnik der Technischen Universität Berlin 1991, D 83.
502			_aPraca doktorska, Technische Universität, 1991.
504			_aBibliografia na stronach 124-126.
710	2		_aTechnische Universität (Berlin). _eWydawca _4pbl _938909
966			_aPOZN_31
999			_c134572 _d134572